流れ経路中の流れの調整方法

Method for adjusting flow in flow channel

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for adjusting flows of liquid in a flow channel in various fields including a microcompact fluid element. <P>SOLUTION: In the adjusting method, the liquid is introduced into a capillary tube passage (35) which has at least one step down joint section (36a, 36b), and a flow adjusting channel which has a hydrophobic region (50) in a contact state, whereby the liquid is stopped in the hydrophobic region and the passage region having at least one step down joint section. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
【課題】超小型流体素子を含む種々の分野において流路中の液体の流れを調整する方法を提供する。 【解決手段】調整方法では、少なくとも1つのステップダウン接合部(36a,36b)を有する毛管通路(35)と接触状態にある疎水性領域(50)を有する流れ調整経路に液体を導入し、それにより液体が疎水性領域及び少なくとも1つのステップダウン接合部を有する経路の領域で止められる。 【選択図】図1

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (16)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2010008217-AJanuary 14, 2010Shimadzu Corp, 株式会社島津製作所Reaction vessel plate and reaction treatment method
    JP-2012229985-ANovember 22, 2012Rohm Co Ltd, ローム株式会社マイクロチップ
    JP-2014126517-AJuly 07, 2014Rohm Co Ltd, ローム株式会社マイクロチップ
    JP-4816791-B2November 16, 2011株式会社島津製作所反応容器プレート及び反応処理装置
    JP-4900485-B2March 21, 2012株式会社島津製作所反応容器プレート及び反応処理方法
    JP-5012817-B2August 29, 2012株式会社島津製作所反応容器プレート及び反応処理方法
    JP-WO2008096492-A1May 20, 2010株式会社島津製作所反応容器プレート及び反応処理方法
    JP-WO2008132873-A1July 22, 2010株式会社島津製作所反応容器プレート及び反応処理方法
    US-9308530-B2April 12, 2016Shimadzu CorporationReaction container plate and reaction treatment apparatus
    US-9550184-B2January 24, 2017Shimadzu CorporationReactor plate and reaction processing method
    WO-2008081523-A1July 10, 2008Fujitsu LimitedCapteur de pression et dispositif électronique l'incorporant
    WO-2008096492-A1August 14, 2008Shimadzu CorporationPlaque de récipient de réaction et procédé de traitement de réaction
    WO-2008108027-A1September 12, 2008Shimadzu CorporationPlaque de récipient de réaction et appareil de traitement de réaction
    WO-2008132873-A1November 06, 2008Shimadzu CorporationReaction container plate and reaction processing method
    WO-2009063681-A1May 22, 2009Shimadzu Corporation反応容器プレート及び反応処理方法
    WO-2009072332-A1June 11, 2009Shimadzu CorporationRéacteur et procédé de traitement de réaction